特长 ·通过磁场辅助,可以产生比其他ICP方式低压力、低电子温度、高密度等离子体,从离子性蚀刻到自由基性蚀刻,可以进行宽范围的等离子体控制,因此可以对应于作为开发tool的多用过程。 ·搭载了防止RF投入窗的沉积物附着的“Star电极”。另外,具有加热功能,重视再现性和稳定性的装置概念。 ·实现作为高可靠性输送机器人、装置构造简单、维护简单等研究开发Tool的可靠性。 ·还可以追加丰富的可选功能和暗盒室。 ·面向批量生产线,推出了由同一个Chamber构成的支持多个Chamber的NE-5700、NE-7700。 用途 ·化合物材料(LED、LD、高频器件和功率器件)。 ·电极加工、金属布线、**膜、陶瓷等加工。 ·用于加工铁电体、贵金属、磁性膜等难蚀刻材料。 ·纳米压印、NEMS、MEMS、各种传感器。 ·生物芯片、微流体装置、光子晶体等。